レーザー監視システム 4750-PM

粉塵濃度および不透明度測定用加工

4750-PMは、逆散乱技術を使用して、凝縮水が存在しないプロセスにおいて、スタックやダクト内の粒子状物質を正確で信頼性の高い測定するレーザー分析装置です。 幅広いアプリケーションに適した頑丈な設計で、高安定な光学システムを採用し、大面積収集が可能で、検出限界は1mg/m3未満です。 4750-PMは、広い温度範囲で動作し、内部ユーザーインターフェイスを組み合わせたスタックマウントセンサーを使用し、光学パスがスタック全体の測定を最大化するように事前に設定されているため、可動部品はありません。 4750-PMは、コンプライアンスまたはプロセス監視のための連続放出モニタ（PM-CEMS）として使用するのに適しており、発電、ガラス、工業用ボイラー、金属精製、鉱物、パルプ＆製紙産業でのアプリケーションに最適です。最小ダクトサイズは 1.5 m (59 インチ) です。 広い温度範囲 非侵入型レーザー後方散乱センサーを採用した4750-PMは、スタックに繊細な部品を配置する必要がないため、250°C（400°F）までの温度で使用できます。 較正監査および検査 フィルター監査ユニットは、定期的な直線性チェックを可能にし、国際および国の排出監視基準への準拠を保証します。コンプライアンス要件に合わせて事前定義されたフィルタを挿入することで、ゼロおよび高級キャリブレーションをチェックできます。 BACK 散乱テクニック 粒子がレーザービームを通過すると、すべての方向に光を散乱します。後方散乱光は検出器に集められ、装置設計により迷光を除去します。