本機は、閉鎖環境下でマニピュレーターにより自動操作される全自動ウェーハ洗浄機で、洗浄・乾燥機能を有し、研磨後の各種半導体基板材料の洗浄に適しており、ウェーハ表面のパーティクル汚染を効果的に低減させることができます。
充実した機能
洗浄と乾燥の機能を持ち、密閉された環境でマニピュレーターにより操作され、リスクが低く、二次汚染を防ぐことができます。
簡単な操作
PLCタッチパネル制御により、カセットからカセットへのウェーハ自動洗浄をマニピュレータで自動完結します。
良好な互換性
2インチ、4インチ、6インチウエハに対応。
省スペース
クリーンルーム内の床面積を最小限に抑えることができます。
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