NDIRガスセンサー Gasboard-2060

赤外線プロセス計測用半導体用ガス精製モニタ用

製品概要
Gasboard-2060はNDIR技術を用いたSiF4ガスセンサーで、シリコン系CVD堆積装置のチャンバー洗浄におけるエンドポイント検出（EPD）をリアルタイムで行うために設計されています。専用のガスセルと光学系を統合し、チャンバー洗浄プロセスにおけるSiF4濃度を選択的に測定します。Gasboard-2060は高速な応答でSiF4濃度を報告し、アナログ／デジタルインターフェースを通じてプロセス制御システムに統合できます。

特長

• SiF4測定に最適化されたNDIR検出。
• 洗浄エンドポイントの精密判定を可能にする高速応答（T90＜2s）。
• 低ゼロドリフトと高い再現性による安定出力。
• 設置・保守が容易なモジュラーかつコンパクトな設計。
• アナログ（1–10VDC）およびデジタル（RS232）出力、サンプリングポート：KF16。

仕様
測定ガス：SiF4
検出原理：NDIR（非分散型赤外線）
レンジ：（0.0–0.2）Absorbance
応答時間：T90＜2s
データ報告間隔：0.5s
アナログ出力：1–10VDC
電源入力：15VDC（≤300mA）または24VDC
デジタル通信：RS232
サンプリングポート：KF16
寸法：200 × 120 × 75.5 mm
リーク率：＜1×10-8 Pa·m3/s（He）
動作温度：5～65 ℃

技術仕様

• 測定ガス：SiF4
• 検出原理：NDIR
• レンジ：（0.0–0.2）Absorbance
• 応答時間：T90＜2s
• データ報告間隔：0.5s
• アナログ出力：1–10VDC
• 電源入力：15VDC（≤300mA）または24VDC
• デジタル通信：RS232
• サンプリングポート：KF16
• 寸法：200×120×75.5 mm
• リーク率：＜1×10-8 Pa·m3/s（He）
• 動作温度：5～65 ℃