概要- HD SERIES は超高純度用途向けに設計された高圧空圧ダイヤフラムバルブで、半導体、研究所、その他のハイテク産業に適しています。
特徴- 汚染や滞留領域を最小化する超高純度設計。
- 完全な洗浄・パージを可能にし、流量を最大化する最適化された流路。
- 半導体向けの高清浄度での組立および梱包。
- 出荷前に全製品をヘリウムリーク試験で検査。
本体- 材質:超高純度用途向けの316L VIM‑VAR ステンレス。
- 内面粗さは Ra 5 μin まで可能で、流路の完全な洗浄を可能にします。
- 設計は滞留領域を最小化し、パージを容易にし、流量を最大化します。
ダイヤフラム- 材質オプション:Hastelloy C‑22 またはコバルト系スーパー合金(UNS R30003)、耐力と耐食性を確保。
- 長寿命サイクルを考慮した最適化設計。
シート- PCTFE 完全封入シート設計により、膨潤および汚染に対する優れた耐性を提供。
- ヘリウムリーク試験性能が改善され、粒子発生が最小限。
- 長寿命サイクルを意図した設計。
技術データ技術図面および寸法図は製品ページに掲載されています。寸法はミリメートル表記で参考値であり、変更される場合があります。
製品寸法寸法はミリメートルで示され、参考用であり変更される場合があります。
注文情報標準の注文仕様およびモデルオプションを提示しています(注文の詳細は製品ページの資料および画像でご確認ください)。
仕様- シリーズ:HD SERIES
- 本体材質:316L VIM‑VAR ステンレス
- 内面粗さ:最大 Ra 5 μin
- ダイヤフラム材質:Hastelloy C‑22 またはコバルト系スーパー合金(UNS R30003)
- シート材質/設計:PCTFE 完全封入シート
- 清浄度:半導体用途向けの高清浄度での組立および梱包
- 試験:各ユニットに対してヘリウムリーク試験を実施
- 用途:半導体、研究所用特殊ガス、産業用ガス配分およびその他の高純度ガスシステム