高出力ダイオード レーザー バレット JDL-BAB-TE series
CW準連続波固体

高出力ダイオード レーザー バレット
高出力ダイオード レーザー バレット
高出力ダイオード レーザー バレット
高出力ダイオード レーザー バレット
高出力ダイオード レーザー バレット
お気に入りに追加する
商品比較に追加する
 

特徴

操作方法
CW, 準連続波
光源
固体
スペクトル
近赤外線(NIR), NIR, 幅広板
応用
医療用, 光ポンプ, 材料加工用, 高出力, プロセス
その他の特徴
高出力, 半導体式, ダイオード
出力

最少: 40 W

最大: 500 W

波長

最少: 760 nm

最大: 1,060 nm

詳細

材料加工、医療、センシングにおける光学ポンプおよびダイレクトダイオードレーザー(DDL)アプリケーション用高出力レーザーバー Jenoptik は高出力ダイオードレーザー技術を世界に先駆けて開発し、760 nm - 1060 nm のスペクトル領域の高出力広域放出ダイオードレーザー を一貫して供給しています。 当社は、連続波(cw)、ハードパルス(hp)* ロングパルス(lp)**、準連続波(qcw)、最大 300 W(cw)/500 W(qcw)の光学出力で動作可能なアンマウントレーザーバーを提供しています。 * ハードパルスは、I = 0 から Imax までのディープサイクルを指します 。例: オンタイム t ON = 1 秒および 50% デューティサイクル ** ロングパルスはオンタイム tON ~ 5..100 ms および > 1% デューティサイクルにおける動作を指します。 エピタキシャルウェーハサービス ウェーハのエピタクシー 近赤外(NIR)オプトエレクトロニクスデバイス用カスタム設計エピタキシャルウェーハ 当社の エピタキシャルサービスは、GaAs基板と(Al,In,Ga)(As,P)化合物半導体に基づくエピウェーファー構造に対するニーズに対応します。

カタログ

この商品のカタログはありません。

JENOPTIK AGの全カタログを見る
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。