溶剤
ハイドロカーボン
塩素系
変性アルコール
適用プロセス
超音波洗浄
蒸気洗浄
浸漬(撹拌)洗浄
スプレー洗浄
すすぎ
蒸留
真空乾燥
完全ステンレス構造
システム各部の真空操作
連続溶剤蒸留
スラッジ剥離蒸留機
浸漬キャビテーション用超音波振動子
ダブル洗浄液貯蔵タンク
統合スプレーポンプ
必要な真空体制を作る真空ポンプ
各サイクルでの全溶剤ろ過
作業者が空にする前のチップ乾燥と脱臭
オペレーターによる開口/洗浄前のチップ乾燥と脱臭
密閉洗浄/液体ローディング/アンローディングシステム
連続水分離、連続自動排出が可能
溶剤からの油分離、連続自動排出可能
低温除害システム
真空乾燥
プラントサイクルの全運転パラメーターを管理するシーメンスPLC
システムステータスを継続的に表示するシーメンスHMI
イーサネットによる遠隔操作
インダストリー4.0への完全統合の可能性
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