硬質プラスチック研磨機 CMP-Orbis

精密

ロジテックOrbis CMPシステムは、研究開発環境に理想的な精密設計の床置き型CMPツールです。 通常、Orbis CMPシステムは、最適な分析能力と強化された処理性能を持つパイロット生産テストを実施するアプリケーションで使用されます。 このシステムの機能は、以下のように適合させることができます。 後工程のIC製造 マイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)の製造 オプトMEMS バイオMEMS製造 低コストのソリューション - 高付加価値の結果 パイロットプロセス試験を行うには、通常、高価な量産用システムが必要ですが、Orbisはコスト効率の高いシステムでこの機能を実現しています。Orbis CMPシステムは、より高度な機能とハイテクを取り入れ、このサイズのシステムで通常提供されるものより優れた処理能力を実現しています。 柔軟な運用が可能 Orbisは、生産レベルの環境を再現する能力に加えて、より伝統的な研究開発での使用にも適しています。 これには、小ロット生産とパイロット生産試験が含まれます。 このシステムは、専用キャリアを使用して、直径200mm（8″）までのあらゆるダイ、ウェハー、パーツウェハーを処理することが可能です。これまでのロジテックCMP装置と同様に、テンプレートやシムを利用したり、サンプルをサンプルキャリアに直接マウントすることも可能です。 主な特長 研究開発環境およびパイロットプロセステストに理想的 最大200mm（8″）のサンプルに対応する大容量ワークスペース プロセスパラメータを分析するためのデータをダウンロード可能 実験室レベルのフットプリント 最適なパッド寿命を維持するための業界標準のパッドコンディショニング