ガス分析器 GPro 500

アンモニアプロセス濃度

NH₃測定用波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計 アンモニア(NH3)ガス分析計GPro 500は、スタック測定やアンモニアスリップアプリケーションでのアンモニアの直接測定を目的に開発された、波長可変半導体レーザー分析計です。 レーザー吸収分光法を採用し、低メンテナンスで正確な測定を実現しています。 最高性能のアンモニア測定 難易度の高いアプリケーション向けのNH3分析計であるGPro 500は、アンモニアスリップやスタック測定アプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。 低メンテナンス・低ランニングコスト このアンモニアガス分析計は、in-situ測定を行い、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要としない設計になっているため、総所有コストを削減できます。 設置が簡単 GPro 500はアライメント調整が不要なので、装置の設置やアライメント調整に伴う負担が大幅に軽減されます。 プロセス制御ニーズに対応 このNH3ガス分析計はアンモニアスリップアプリケーションでのプロセス制御に最適です。 アンモニアガス分析計GPro 500は、重要なアプリケーションにおいて正確で信頼性の高い高速測定を提供する波長可変半導体レーザー分析計で、SIL2に適合しています。 in-situですぐに測定 NH3ガス分析計GPro 500は、現場に設置されるため、サンプルを調整する必要がなく、迅速に結果を得ることができます。 これは、メンテナンス頻度の高い抽出・調整システムを必要とする技術に代わる、信頼性と費用対効果の高い技術です。 難易度の高い設置を想定した設計 GPro 500は自由に構成できるため、アンモニアガス分析計の測定システムをさまざまなプロセスアダプションと組み合わせて、50 mm～1 m超のパイプ直径など、幅広い設置要件に対応させることができます。