ポーターモデルVCD 1000フローコントローラは、下流圧力の変化に関係なく、一定の質量流量で低ガス流量を制御するよう精密に設計されています。
ポーターモデルVCD 1000フローコントローラは、下流の圧力変化に関係なく一定の質量流量で低ガス流量を制御するように精密に設計されています。VCD 1000は層流エレメントを横切るプリセット圧力差を維持します。細かいピッチの調整ステムを回すことにより、内部のダイアフラムにかかる力が変化し、層流エレメントにかかる差圧を変化させ、それにより流量を変化させます。この設計により、ステムの回転に対して極めてリニアな流量出力が得られ、バルブ式コントローラーに見られるノコギリ歯状の動きを実質的に排除することができます。層流エレメントは、5 sccmから1500 sccm (He @ 70°F and 50 PSIG)までのフルスケール流量でご利用いただけます。
市場
- 汎用
特徴/利点
- 56ピッチのネジ山を持つDelrin®調整ステム
- 回転数と流量の関係は直線的
- 気泡密閉シャットオフ
- フルスケール流量:5 SCCM~1500 SCCM (He @ 70°F, 50 PSIG)
- 交換可能なインレットフィルター付属
- 標準パネルマウント構成
用途
- 精密低ガス流量制御
- リニアフロー
- ガス流量表示
- ガスの流量測定
- ユーティリティ
- ガス供給
- 酸素曝気
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