ホットプレート実験用スターラー Hei-PLATE
デジタルアナログ暖房用

ホットプレート実験用スターラー - Hei-PLATE - Radleys - デジタル / アナログ / 暖房用
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特徴

ディスプレイ
デジタル, アナログ
製品用途
暖房用, 加熱, 温度プローブ用
その他の特徴
ホットプレート
回転速度

最大: 1,400 rpm
(8,796 rad.min-1)

最少: 30 rpm
(188 rad.min-1)

詳細

Hei-PLATE 攪拌ホットプレート - 3年保証 - 密閉されたアルミダイキャスト製ハウジングにより、電気部品への溶剤や蒸気の侵入を防止 - 連続無人運転に最適 - 耐薬品性に優れたケラディスクトッププレートコーティング、アルミニウムボディにセラミックコーティングを施し、高速昇温と高い耐薬品性を実現 - トッププレート直径145 mm - 4機種から選択可能 - 800ワットの加熱パワー - ホットプレート温度範囲:20~350 - 回転数範囲30 から 1400 rpm - 攪拌量:最大20 L - 独立した安全回路により、ホットプレート温度が設定温度を25℃超えると加熱を停止 - Pt1000温度センサーまたはEKT Hei-CONを使用した反応温度による制御 - プレート温度が50 °Cを超えると、スイッチがオフの状態でもオレンジ色に点滅し、やけどを防止する余熱インジケーター。 - アルティメットモデルはRS232とUSB-B接続でソフトウェア制御が可能。 シンプルな加熱・攪拌アプリケーション - シンプルな操作 - 加熱用ダイヤルと攪拌用ダイヤルを装備 - 加熱用のオン/オフスイッチが独立しているため、不用意な加熱を防ぐことができます。加熱がオンになっている場合は、オン/オフボタンが点灯し、視覚的にコントロールできます。 - 余熱インジケーターにより、加熱機能をオフにした際の焦げ付きを防止。 - アナログノブで、100~1,400rpmの回転数と300℃までの温度設定が可能。 プロセス制御による加熱が必要な作業に - デジタル表示ですべてのパラメーターを正確に設定・監視 - Pt1000温度プローブとの組み合わせで、プロセス温度による加熱制御が可能

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。