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- Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
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PECVD貯蔵マシン 薄膜
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特徴
- 方法
- PECVD
- 貯蔵方法
- 薄膜
詳細
・反射電力を最小限に抑えた高速RF点火により、均一かつ安定した薄膜成膜を実現；
・大型プロセスチャンバーにも対応可能な、成熟かつ安定したRF技術によるマルチフィード方式；
・ディフューザーと基板間のガス流量を連続的に調整可能で、柔軟なプロセスを実現；
・比較的低コストで高いスループットを実現し、製品設計のカスタマイズにも対応；
・設置やメンテナンスが容易なモジュール式設計に加え、設計から製造に至るまで最高水準の安全プロトコルを徹底。
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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。
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