純粋水素発生器 H-Genie®
研究所用プロセス化学合成用

純粋水素発生器 - H-Genie® - THALESNANO Inc. - 研究所用 / プロセス / 化学合成用
純粋水素発生器 - H-Genie® - THALESNANO Inc. - 研究所用 / プロセス / 化学合成用
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特徴

ガスの特徴
純粋
分野
研究所用, プロセス
応用
化学合成用
設定
コンパクト, 卓上
その他の特徴
高圧
吐出圧力

最少: 1 bar
(14.5 psi)

最大: 100 bar
(1,450.38 psi)

ガス純度

99.99 %

詳細

H-Genie®は、オンデマンド水素生成用に設計された受賞歴のあるコンパクトなシステムです。特許取得済みの技術を活用し、最大100 bar (1450 psi)の圧力と最大1 NL/分の流量で、水から純度4.0の水素ガスを発生させることができます。このシステムは、水素ボンベに代わる、より安全でシンプルなものとして、また、化学の能力を拡張するものとして、どのような研究室でも使用できるように設計されています。 H-Genie®水素発生装置の特徴 - 脱イオン水からの水素発生 - ボンベ不要 - 高圧で化学の幅を広げる - あらゆるリアクターおよびバルーンに対応 - 簡単なセットアップと使用 - 場所を取らないコンパクトな設置面積 - 安全性を高める内部水素検知器 - 流量、圧力、体積を可変制御 - データエクスポート機能で水素消費量を監視 - あらゆる実験室やヒュームフードに対応 Phoenix™ フローシステム Phoenix™ II フローリアクターは、反応ゾーンを最高450 °Cまで加熱できる強力な装置で、複数のタイプとサイズのリアクター(CatCarts®、MidiCarts™、コイル状リアクター、金属-金属密閉触媒カラム)に対応しています。 Phoenix - H-Genie®水素化プラットフォームは、あらゆる発見、開発、プロセス、石油化学、触媒スクリーニングラボで安全に使用できるように設計されており、水からのin-situ高圧水素発生と高温反応器機能、および精密なガスデータモニタリングシステムを初めて組み合わせました。化学者や化学エンジニアは、水素ボンベや水素インフラを必要とすることなく、450℃、100 barまでの均一系または不均一系触媒で水素ベースの実験を行うことができます。

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。