血漿用PCBエッチングマシン SIRUS T2

プリント回路用

SirusのT2反応イオンEtcherは誘電体をエッチングするように設計されているフッ素 ベースの化学を要求する他のフィルムおよび基本的な血しょうエッチング システムである。小さい足跡および強い設計はそれを実験室の環境にとって理想的にさせる。 適用 MEMS、ソリッド ステート照明、失敗の分析、研究及び開発の試験ライン。 フッ素の腐食プロセス （SF6、CF4、CHF3、O2） •カーボン•Si •エポキシ•SiO2 •InSb•Si3N4 •Ir•SiC •Mo•Ta •Nb•タン •OxyNitride•TiW •Polyimide•錫 •Pr （例えば:絹かSU8）•W •水晶 用具の標準機能 200mmの最下電極を搭載するSirusのT2リアクター システム制御装置（Pentium™によって基づくコンピュータおよびタッチ画面 インターフェイスを含んでいる） 2つのマス フローのコントローラー 13.56 MHz 600のワットRFの発電機によって自動調整 システムを離れた緊急事態 自動圧力制御のパッケージ（圧力測定のためのキャパシタンス圧力計が付いている蝶弁） 12か月の限定保証 オプション機能 温度調節器の再循環 2つまでの付加的なマス フローのコントローラー ポンプ 170 l/sターボ 23.3のcfmのオイルのろ過、デミスターおよびFomblinオイルが付いている回転式ベーン・ポンプ SirusのT2システムは大体の形になるポンプを4つ以上のMのオームの抵抗のスリラーか冷水要求し。