最新世代のバイポーラパルスジェネレータ
PVD、PECVD及び反応性スパッタリングプロセスによるプラズマコーティング専用に開発されたTruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) シリーズのプロセス電力供給装置では、柔軟に構成可能な出力信号及び洗練されたアーク管理により、ソーラーセルや半導体の製造、装飾的で耐摩耗性の膜のコーティング、並びに建築用ガラスのコーティングの際に、極めて優れた結果が得られます。
最高のコーティング品質と生産性を実現する完全デジタル式のアーク管理
直流、パルス直流、バイポーラ: 多様な設定オプションでコスト削減
様々な出力信号により異なるプロセスに合わせて容易にカスタマイズ可能
外部コンポーネントは不要であるため非常に省スペース