ダイヤフラム式真空ポンプ MD 4C EX VARIO +AK+EK

潤滑一段研究所用

新しいATEX VARIO®化学ダイアフラムポンプと真空システムでは、モーターの回転数によって真空を正確に制御することができます。VARIO®ポンプは追加の制御信号ラインで駆動されます。オプションの真空コントローラーCVC 3000とシステムアクセサリー（I/O-モジュール、サプライ/アイソレーションアンプ）およびATEX真空センサーを使用すると、パラメータ設定やユーザープログラミングを必要としない完全自動のエバポレーションが可能になります。適応制御により、独立して沸騰圧力を検出し、蒸気圧に応じて連続的かつ最適に真空を調整します。 真空コントローラーとシステムアクセサリーは、非危険区域に設置されます。 性能面の特徴 セパレーターAKとエミッションコンデンサーEKを備えたATEX化学ダイアフラムポンプの利点を最大限に活用。 VARIO®：ヒステリシスのないVARIO®真空制御による短いプロセス時間 VARIO®。VARIO®ポンプは必要な時に必要なだけ動作します - 最小限の電力消費、メンテナンス間隔の延長、静かな動作 VARIO®（バリオ真空コントローラーCVC 3000（オプション）による精密な真空制御と完全自動プロセスの実現 I/Oモジュール、サプライ/アイソレーションアンプ、ATEX真空センサーなどのシステムアクセサリーが一式揃っています。