ENVEAの化学工業用監視システム

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埃監視システム
埃監視システム
STACK 980

... ELECTRODYNAMIC® 認定の特定CEM MCERTS EN 15859 フィルターダスト承認済み粒子モニタリング シス テムにより、バッグハウスやカートリッジフィルターなどの乾燥産業プロセスからの低塵濃度で高品質の排出量測定を実現する 特長と利点 -堅牢な設計センサーロッド上の製品のビルドアップの影響を受け ない-空気パージなどの追加サービスは不要で、所有コストの低減 -専門サービス担当者のための簡単なメンテナンス -Modbusを介して最大16のセンサーチャンネルをネットワーク化 ...

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粒子監視システム
粒子監視システム
QAL 360

... QAL1 認定バックスキャッタ特別 CEM TUV QAL1およびMCERTS承認、スタンドアロンまたはネットワーク化された シス テムオプション粒子CEMは、 工業プロセスからの粉塵濃度の高品質放出測定を提供します 0~7.5mg/m³の認証範囲を有しており、QAL 360センサは低または高の粉塵レベルは、産業排出指令に規定されている大型燃焼プラントにおいて、最小排出制限値 5 mg/m³ を満たしています。 ...

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速度監視システム
速度監視システム
STACKFLOW 400

... 提供する垂直ポート メインアプリケーション -スタック速度、容積流量および汚染物質質量放出計算(ガスおよび粉塵CEMSにリンクされている場合) 典型的なアプリケーション: -焼却-金属(例えば鋼/アルミニウム) -鉱物(例えばセメント/石膏) - 化学物質(製油所/ゴムなど) -発電プラント(石炭/バイオマスなど) ...

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濃度監視システム
濃度監視システム
STACK 990

... ろ過なし- プロセス乾燥機後 -8〜20m/sの範囲内の可変速度 (典型的なバッグフィルター速度範囲)、この外で必要な一定速度範囲 -非結露/乾燥煙道ガス 典型的な用途: -焼却 -金属(例えば鋼/アルミニウム) -鉱物(例えばセメント/石膏) - 化学物質(例えば洗剤/カーボンブラック) -発電プラント(例えば石炭/バイオマス) ...

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粒子監視システム
粒子監視システム
QAL 991

... サイクロン, 静電気沈殿器, ろ過なし -範囲内の可変速度 5 — 25 m/s (典型的なバッグフィルター速度範囲) -結露しない/乾燥煙道ガス 典型的な用途: -焼却-金属 (例えば鋼/アルミニウム) -ミネラル (例えばセメント/石膏) - 化学物質(例えば洗剤/カーボンブラック) -発電プラント(石炭/バイオマスなど) ...

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水銀監視システム
水銀監視システム
VM-4000

... のための水蒸気モニター 継続的な空気品質 監視、実験室、環境 監視、品質管理などに完全に適合しています VM-3000水銀蒸気モニターは、ガス中のHg濃度を継続的に測定します。 水銀の 監視が必要な場所に設置されるだけでなく、実験室用途にも使用されます。 これは、科学研究や産業部門 の特長と利点 -頑丈なハンドル付き金属ハウジング- 耐久性のあるメンブレンポンプ -簡単に交換可能なフィルタ膜を備えたサンプルインレット粒子フィルター -工場較正済み-光学 シス テムとエレクトロニクスの高い安定性による頻繁な ...

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