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SARRALLEのクリーンルーム用監視システム
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... のようなさまざまな種類の包装に適用でき、電池ケースのような密閉されたデバイスの試験にも使用できます。 主な強み その広い検出範囲のおかげで、AMIはヘリ ウム リークテストとグロス リークテストを1つの シス テムで置き換えることができます。AMIはユーザーに依存しない、決定論的なゴー/ノーゴーの結果を提供し、 リークテスト結果の定量化も可能にします。そのため、校正検証は校正済みの認定 リークに基づいており、USP ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... FOUPがない場合、APA 302は周囲の クリ ーン ルーム環境を 監視します。 FOUP環境の信頼性の高い分析 性能を保証するために、SEMI S2/S8準拠のAPA 302は、一定間隔で作動するオートキャリブレーション機能を備えています。APA内のAMCの 監視は、ウェハの有無にかかわらず、POD内で実行することができる。FOUPは、手動で、または2つのロードポート上のオーバーヘッドホイスト輸送(OHT)を介して配送することができる。このようにして、個々のプロセス ステップ間の待ち時間を最適化し、汚染の増加値 ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... ADPC 302は、半導体産業におけるパーティクル汚染モニタリングのための独自の インプロセス汚染管理 シス テムです。 効率的なパーティクルモニタリング サブマイクロメートルの粒子は欠陥の原因となり、歩留まりを著しく低下させる可能性があります。0.1μmを測定する最小の粒子でさえ、半導体チップの構造に損傷を与える可能性があります。 革新的なADPC 302は、ウェーハ搬送キャリア(Front Opening ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... することができます。APRは、ウェーハとFOUPの除染用に4つの真空チャンバを積み重ねた シス テムで、信頼性の高いロボットから供給されます。全てのチャンバーには真空ポンプ ステーション、ガスボックス、操作パネル、電源付き制御装置が装備されています。チャンバーは個別に操作することができます。ウェーハを含むFOUPをチャンバーに装填した後、チャンバー内の圧力を0.1mbar以下に低下させます。その後、除染処理が行われます。この後、チャンバーは クリ ーン窒素でパージされ、大気圧に戻されます。これで、ウェーハと輸送ボックスは1日以上汚染 ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... AMPCは、 クリ ーン ルームや装置のフロントエンドモジュールのモニタリング(EFEM)に最適なソリューションです。 IC製造工場における空気中の分子汚染(AMC)は、歩留まり損失の主な要因として知られています。汚染がどこから来るのかを制御し、理解するために、ファイファーバキュ ームは現在、 クリ ーン ルームとEFEM(機器フロントエンドモジュール)を 監視するためのユニークなソリューションを半導体市場に提供しています。 お客様のメリット - ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... モニタリング シス テム(FMS)は、医薬品製造など様々な産業の クリ ーン ルームの管理ニーズに対応できるよう、幅広い設定を行うことが可能です。FMSは、非生物的な空中気中の浮遊微粒子数、空気温度、および相対湿度をモニタリングすることができます。弊社のFMSソリューションは、お客様が すでにお持ちのSCADAといった シス テムと容易に、かつ効率的に インテグレーションを可能にするために設計された、オープンアーキテクチャーのプラットフォームをベースにしています。 ルーチンのモニタリングおよび クリ ーン ルーム分類用のポータブル ...