VACUUBRANDの蒸留用真空発生器

到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 0 m³/h - 9 m³/h
出力: 0.7 kW

... 10Cは、10-3 mbarの圧力範囲でオイルフリー真空技術の利点を確実に提供します。この新しい真空ポンプは、ユーザーにとって重要な3つの利点を兼ね備えています。100%オイルフリー、耐薬品性、摩耗部品がないことです。VACUU-PURE 10Cは、クリーンなプロセスや純製品の製造に理想的な製品です。このスクリューポンプは、特に10-3 mbarまでの真空領域でのプロセス用に設計されていますが、他の精密真空技術とは異なり、大気圧からその究極の真空まで、すべての圧力範囲で使用することが可能です。また、 ...

到達真空度 : 70 mbar
流量: 2.1, 2.4 m³/h
出力: 0.18 kW

到達真空度 : 70 mbar
流量: 3.9, 4.3 m³/h
出力: 0.18 kW

到達真空度 : 0.01 Torr
流量: 893 m³/h
出力: 18 kW

一般産業向けの万能真空ソリューション 制御および監視 インダストリー4.0に対応し、遠隔制御、状況監視、通信プロトコルの利用が可能 コスト削減 エネルギー消費量の削減、運用コストの最小化、可変速ドライブ 定評のある技術 定評のあるドライスクリュー真空テクノロジー、高度なスクリュー設計、最小限のメンテナンスによる信頼性の高い運転

到達真空度 : 0.01 Torr
流量: 949.7 m³/h
出力: 18 kW

一般産業向けの万能真空ソリューション 高い性能 高度なスクリュー設計、特許取得のセルフバランシングスクリュー、優れた運転品質、真空乾燥、フリーズドライ、脱ガス、熱処理、熱成形、その他にも多くの用途に適用可能 高効率性 インテリジェントな可変速ドライブ、所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な水冷方式

到達真空度 : 2 mbar
流量: 1.7 m³/h
出力: 160 W

... Hei-VAP Expert Control / Hei-VAP Ultimate Control用。 凝縮しやすい蒸気を扱う場合、ガスバラストバルブが開いていても、優れた最終真空度に到達します。これにより、DMFやDMSOのような高沸点溶媒の蒸留が、低い浴温で可能になります。 ...

到達真空度 : 0.05 mbar
流量: 4, 4.8 m³/h
出力: 0.4, 0.37 kW

... ロータリーベーン式真空ポンプ、二段式、強制潤滑式。凝縮性ガスを除去するためのガスバラストバルブと吸引チェックバルブが付属しています。 付属品 エアフィルター、外付けオイルセパレーターフィルター、真空計 ...

到達真空度 : -826 mbar
流量: 4 l/min
長さ: 87 mm

到達真空度 : 5.3 mbar - 7 mbar
流量: 100 m³/h - 450 m³/h
出力: 3 kW - 7 kW

... ザウルス939は、特に過酷な使用条件下でも、抽出された溶媒の完全な回収を保証し、すべての主要な化学および製薬プロセスで高い性能を保証する真空ポンプです。 あらゆる揮発性物質を妥協なく吸引できます： 一般的な溶剤蒸気 - メチルアルコール、エチルアルコール、クロロホルム、アセトン、酢酸エチル、塩化メチル、ベンゾール、トルエン、イソプロピルアルコール、エチルエーテル、ヘプタン。 最も侵食性の強い溶剤 - 塩酸、酢酸、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、アクリルニトリル、ジクロロエタン、シクロヘキサン ...

到達真空度 : 0.66 mbar
流量: 81 m³/h - 380 m³/h
出力: 3 kW - 11 kW

... ザウルス939は、特に過酷な使用条件下でも、抽出された溶媒の完全な回収を保証し、すべての主要な化学および製薬プロセスで高い性能を保証する真空ポンプです。 あらゆる揮発性物質を妥協なく吸引できます： 一般的な溶剤蒸気 - メチルアルコール、エチルアルコール、クロロホルム、アセトン、酢酸エチル、塩化メチル、ベンゾール、トルエン、イソプロピルアルコール、エチルエーテル、ヘプタン。 最も侵食性の強い溶剤 - 塩酸、酢酸、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、アクリルニトリル、ジクロロエタン、シクロヘキサン ...