VACUUBRANDのガス用真空発生器
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到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 0 m³/h - 9 m³/h
出力: 0.7 kW
... 10Cは、10-3 mbarの圧力範囲でオイルフリー 真空技術の利点を確実に提供します。この新しい 真空ポンプは、ユーザーにとって重要な3つの利点を兼ね備えています。100%オイルフリー、耐薬品性、摩耗部品がないことです。VACUU-PURE 10Cは、クリーンなプロセスや純製品の製造に理想的な製品です。このスクリューポンプは、特に10-3 mbarまでの 真空領域でのプロセ ス用に設計されていますが、他の精密 真空技術とは異なり、大気圧からその究極の 真空まで、すべての圧力範囲で使用することが可能です。また、 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 0 m³/h - 10 m³/h
出力: 0.7 kW
... オイルフリーの 真空技術の利点を確実に提供します。VACUU-PURE 10は、ユーザーにとって重要な3つの利点を兼ね備えています。100%オイルフリー、摩耗なし、摩耗部品なしです。 VACUU-PURE 10は、乾燥した炭化水素を含まない 真空を必要とするクリーンプロセスに最適です。スクリューポンプのスピンドルは非接触で作動するため、摩耗や摩耗がありません。スクリューポンプは特に10-3mbarまでの 真空範囲のプロセ ス用に設計されていますが、他のファイン 真空技術とは異なり、大気圧から究極の 真空までの全圧力範囲 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 6.9, 5.9 m³/h
出力: 0.4 kW
... ケミストリー・ダイアフラムポンプを組み合わせ、耐腐食性を最適化したポンプです。ダイアフラムポンプは、溶剤蒸気の分圧を凝縮点以下のレベルに保ち、酸素と腐食性 ガスの濃度を大きく下げるため、オイルタンクを 真空状態に維持します。そのため、RC 6ケミストリー-HYBRIDポンプは、従来のロータリーベーンポンプよりもはるかに高い溶剤蒸気圧送能力と腐食性 ガスに対する耐性を備えています。 性能の特徴 腐食性蒸気を扱う場合でも、内部腐食を低減 ロータリーベーンポンプのみと比較して、オイル交換が通常90%以上減少 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 2.1, 2.4 m³/h
出力: 0.18 kW
... ダイヤフラムポンプは、低 真空で ガスや蒸気をオイルフリーで連続移送する優れたソリューションです。ウォータージェットポンプとは対照的に、水を消費しないため、日常使用で汚染された廃水が 発生しません。代表的な用途は、 真空オーブン、ろ過装置、マルチポートマニホールド(中量用)、 ガス圧送、オイルフリーエバキュエーションなどです。 1段式構造は、高速ポンピングと70mbarまでの低極限 真空という有利な組み合わせを提供します。1段式ケミストリー・ダイアフラム 真空ポンプは、腐食性の ガスや蒸気を使用し、それほど深い 真空レベルを必要 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 3.9, 4.3 m³/h
出力: 0.18 kW
... 腐食性の ガスや蒸気をオイルフリーで連続的に送液するための優れたソリューションです。送液媒体と接触する主要部品はすべて耐薬品性フッ素樹脂製です。実績のあるPTFEサンドイッチダイアフラムは信頼性を高め、運転寿命を延ばします。NTシリーズは、性能データをさらに向上させ、凝縮水に対する耐性を高め、メンテナンスを簡素化しました。ME 4C NTは、ケミストリーバキュームシステム ME 4C NT +2AKとしても使用可能です。 化学用1段式ダイヤフラムポンプは、腐食性の ガスや蒸気を使用し、深い 真空レベルを必要 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 4.3, 3.9 m³/h
出力: 0.18 kW
... この化学 真空システムは、高速ポンピングと70mbarまでの低極限 真空という有利な組み合わせを提供します。そのため、大量の ガスや蒸気の排気やポンピングに最適です。出口での溶媒蒸気の凝縮が必要ない場合、化学、生物学、製薬研究所で幅広い用途があります。代表的な用途は、 真空オーブン、単一または複数のろ過、低沸点の溶剤の濃縮などです。入口(AK)のセパレーターは保護コーティングを施したガラス製で、粒子や液滴を保持します。出口のセパレーターは凝縮水を回収し、ポンプへの凝縮水の逆流を防ぎ、ポンプを静かにします。 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 18.4, 16.3 m³/h
出力: 0.53 kW
... ケミストリー・ダイアフラムポンプは、大量の ガスや蒸気の移送に最適です。水を消費しないため、汚染された廃水が 発生しません。代表的な用途は、ろ過ネットワークや低沸点溶媒の一般的な蒸発です。ME 16C NTは、高いプロセス圧力で大きな ガス流量を必要とするプロセスに最適です。困難なアプリケーションのためのインレットセパレーター(AK)や溶剤回収のための排気蒸気コンデンサー(EK)のようなアクセサリーで簡単にアップグレードできます。 性能の特徴 卓越した耐薬品性と優れた蒸気耐性 低 真空レベルでも非常に速い排気速度 コンパクト ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 70 mbar
流量: 18.4, 16.3 m³/h
出力: 0.53 kW
... NT設計のケミストリー・ダイアフラムポンプは、腐食性 ガスや蒸気をオイルフリーで連続移送する優れたソリューションです。.送液媒体に接する主要部品はすべて耐薬品性に優れたふっ素樹脂製です。実績のあるPTFEサンドイッチダイアフラムが信頼性を高め、運転寿命を延ばします。8シリンダーポンプME 16C NTは、コンパクトな設計でありながら、特に高い性能を発揮します。ME 16C NT +EKは、排気蒸気コンデンサ(EK)を装備しており、溶剤の効率的な回収が可能な環境に優しいシステムです。8気筒NTポンプは ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 20, 12 mbar
流量: 0.75 m³/h
出力: 0.06 kW
... 二段式化学設計ダイヤフラムポンプは、中 真空を必要とする ガスの連続的なオイルフリー圧送に最適です。ウォータージェットポンプとは対照的に、水を消費しないため、汚染された廃水が 発生しません。典型的な用途は、ロータリーエバポレーター、ゲルドライヤー、ろ過、その他多くのラボアプリケーションです。 性能の特徴 卓越した耐薬品性と優れた蒸気耐性 上部に取り付けられた電源スイッチにより、便利で素早く簡単に使用可能 連続パージ用 ガスバラストでも最適化された 真空度 非常に静かで振動が少ない メンテナンスフリーの駆動システム ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 7, 12 mbar
流量: 2, 2.3 m³/h
出力: 0.18 kW
... としています。 二段式化学設計ダイアフラムポンプは、中 真空を必要とする腐食性 ガスや蒸気を使用するアプリケーションに最適です。水を消費しないため、汚染された廃水が 発生しません。耐薬品性に優れたフッ素樹脂製の接液材料は、化学や製薬分野での幅広い用途を可能にします。堅牢な設計により、耐久性に優れ、過酷な化学用途においても長い使用間隔を実現します。 性能の特徴 卓越した耐薬品性と優れた蒸気耐性 低 真空レベルでも高性能 凝縮水パージ用 ガスバラストでも最適化された 真空度 静かで振動が少ない 長いダイアフラム寿命、メンテナンスフリー ...
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