Pirômetro para materiais refletores UV 400, UVR 400

sem visorRS485estacionário

Medição da temperatura da superfície do wafer verdadeiro e da reflectância para Epitaxia baseada em GaN, 650 a 1300°C Os pirômetros UV 400 e UVR 400 da Advanced Energy medem diretamente a temperatura da superfície do wafer em vez da tradicional temperatura de susceptor/pocket. -Ampla faixa de temperatura (650 a 1300°C) permite a cobertura tanto do crescimento do tampão principal quanto do crescimento do MQW -Medir a espessura da deposição com o reflectómetro adicional a 635 nm no UVR 400 -Emissividade, transmitância e subfaixa ajustáveis Visão Geral Os pirómetros UV 400 e UVR 400 da Advanced Energy medem directamente a temperatura da superfície do wafer. Este método melhorado permite um controle mais preciso da temperatura do wafer, levando a um melhor rendimento. O UVR 400 inclui um reflectómetro adicional a 635 nm com uma velocidade de medição de 0,5 kHz. Isso permite que você habilite a medição da espessura da deposição. Estes sistemas estabelecem um novo padrão para os processos de produção LED. Os resultados mostram uma correlação confiável entre a temperatura do processo e o comprimento de onda do produto final. Benefícios -Melhora o rendimento através da medição precisa da temperatura do wafer verdadeiro -Medir a temperatura diretamente na camada de GaN usando instrumentação de comprimento de onda UV -Capture a medição da reflectância em tempo real usando uma fonte de luz pulsante rápida -Prevenir a oscilação da temperatura dos resíduos como se vê nos pirómetros NIR compensados por emissividade -Prevenir a distorção de dados devido à amostragem retardada (sem obturador ligado e desligado) Funcionalidades -Temperatura confiável do wafer com correlação de comprimento de onda PL -Saída analógica e RS485 com interfaces de protocolo UPP disponíveis -Subfaixa ajustável dentro da faixa de temperatura -Dispositivo suporta uma atmosfera de nitrogênio e vácuo (< 10 mbar)