Bomba de vácuo de parafuso COBRA DS 0160 G
secaa plasmacompacta

bomba de vácuo de parafuso
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Características

Tecnologia
de parafuso
Lubrificação
seca
Aplicações
a plasma
Outras características
compacta, anticorrosão
Faixa de vácuo

0,03 mbar
(0 psi)

Fluxo

160 m³/h
(5.650,35 ft³/h)

Descrição

COBRA DS 0080 / 0160 G Design Avançado de Parafusos Eficiente: manutenção mínima e de baixo custo, tempo de funcionamento elevado Flexível: orientado para aplicações Tempos curtos de processo: devido às altas velocidades de bombeamento Robusto: revestimento anti-corrosão em componentes internos Design compacto COBRA DS 0080/0160 G são bombas de vácuo de parafuso seco da comprovada série COBRA DS. As suas elevadas velocidades de bombagem, mesmo em condições em que é necessário um elevado débito de hidrogénio, tornam as bombas de vácuo de parafuso COBRA DS ideais para todos os processos exigentes na produção de células fotovoltaicas, ecrãs planos e semicondutores. A mais moderna tecnologia de bomba de vácuo de parafuso COBRA DS permite a evacuação de pó e partículas. As bombas de vácuo de parafuso seco COBRA DS possuem compressão seca, um perfil de parafuso especialmente desenvolvido e descarga de gás sem obstáculos. O resultado é um alto grau de tolerância ao vapor e às partículas. Os parafusos são fabricados a partir de uma peça única, evitando lacunas, impossibilitando a entrada de fluidos ou partículas do processo e, assim, evitando a corrosão. Equipado com motores de alta eficiência, o COBRA DS 0080/0160 G oferece uma excelente eficiência energética. Com baixos requisitos de manutenção, baixos custos operacionais, um tempo de funcionamento muito elevado e um longo ciclo de vida, o custo total de propriedade é muito baixo, estabelecendo o padrão nesta classe de desempenho. A adaptação destas bombas de vácuo de parafuso aos sistemas existentes pode ser feita rápida e facilmente devido a um design de encaixe. Aplicações CVD de plasma de alta densidade (HDP-CVD) Processamento térmico rápido (RTP) CVD subatmosférica (SACVD) CVD metal-orgânico (MOCVD) CVD com Plasma (PECVD) CVD de baixa pressão (LPCVD) Deposição em camada atómica (ALD)

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