Grupo de vácuo tipo Roots SIHIdry

secode parafusoindustrial

O sistema de raízes de dois estágios do SIHI Dry Chemical PD é baseado numa bomba de parafuso de funcionamento a seco e numa bomba de raízes. O espalhador roda na direcção oposta sem tocar. A entrada está no lado superior e a saída está na posição geodésica mais baixa possível (requisito de cima para baixo). Este conceito inovador de accionamento é a base para uma actualização gradual para um sistema de vácuo inteligente que assume funções adicionais, tais como válvula e controlo da pressão. O sistema inteligente também oferece a opção de monitorização específica de dados importantes do processo, a fim de garantir a máxima estabilidade do processo. Aplicações: O sistema de raiz em duas fases do SIHI Dry Chemical PD foi desenvolvido para utilização em ambientes explosivos. O sistema modular pode ser flexivelmente adaptado a diferentes processos, tais como secagem, vaporização de película fina, etc.