Solvente de limpeza
para resíduos de gravação

Solvente de limpeza - Fujifilm NDT Systems - para resíduos de gravação
Solvente de limpeza - Fujifilm NDT Systems - para resíduos de gravação
Solvente de limpeza - Fujifilm NDT Systems - para resíduos de gravação - imagem - 2
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Características

Função
de limpeza
Aplicações
para resíduos de gravação

Descrição

Produtos de limpeza aquosos para pós-adesão compatíveis com alumínio, cobre e ligas metálicas avançadas, camadas antirreflexo, SiO2 e dieléctricos de k ultra baixo Produtos de limpeza aquosos pós-adesão altamente eficazes compatíveis com processos BEOL de Al, Cu e ultra-baixo-k. Caraterísticas e vantagens Ampla latitude de processo Compatível com aplicações de ferramentas de pulverização e de lote Vantagem do custo de propriedade em relação aos produtos de limpeza à base de solventes - Enxaguamento direto com água DI Elimina o custo adicional de produtos químicos de enxaguamento e aumenta o rendimento através da eliminação de passos químicos Seguro e fácil de utilizar Compatível com materiais de equipamento de processo avançado Compatibilidade superior com metais, ILD e ULK A pureza do produto é continuamente verificada através da utilização de ferramentas analíticas de última geração Fabricado e embalado em fábricas nos EUA e na Ásia Diferentes graus, dependendo do tipo de corrosão Alguns produtos são oferecidos com ou sem surfactante Consulte a nossa visão geral das aplicações para conhecer os diferentes tipos de corrosão Opções de embalagem: garrafas de 4 x 4L tambores de 200L (de ida ou retornáveis) contentores de 1000L (de ida ou retornáveis) Entrega a granel (depende da localização)

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