Microscópio infravermelho C10506-05-16
para inspeçãoinvertidode infravermelho próximo

microscópio infravermelho
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Características

Tipo
infravermelho
Aplicações técnicas
para inspeção
Ergonomia
invertido
Técnica de observação
de infravermelho próximo
Outras características
com câmera digital, de alta resolução, de alta velocidade, de fotoemissão

Descrição

O microscópio de emissão invertida é um sistema de análise de fundo concebido para identificar locais de falha através da detecção da luz e do calor emitidos pelos defeitos nos dispositivos semicondutores. A detecção do sinal da parte traseira facilita o uso da sonda e do cartão de sonda para a superfície do wafer, e o ajuste da amostra pode ser executado sem problemas. A plataforma, possível de montar vários detectores e lasers, permite a seleção do detector ideal para realizar vários métodos de análise, como análise de emissão de luz e geração de calor, análise IR-OBIRCH e outros; além disso, permite que a análise dinâmica funcione eficientemente através da conexão do testador. ●iPHEMOS-DD Ao conectar diretamente ao testador LSI, o atraso do sinal devido ao comprimento do cabo de conexão pode ser reduzido, e a análise de amostras de condução de alta velocidade é possível. A sonda dedicada de acoplamento direto permite a fixação de agulhas de múltiplos pinos em pastilhas de 300 mm e, com a opção adicional, é possível realizar a análise da embalagem, bem como a fixação da agulha de pino por um manipulador. Características - Duas câmaras de ultra-alta sensibilidade montáveis para análise de emissões e análise térmica - Lasers para até 3 comprimentos de onda e uma fonte de luz de sonda para EOP são montáveis - Multi-plataforma capaz de montar vários detectores - Lente macro de alta sensibilidade e até 10 lentes adequadas para cada comprimento de onda de sensibilidade do detector Opções - Inclui sistema de varredura a laser - Análise de emissões com câmera quase infravermelha de alta sensibilidade - Análise térmica com câmera de infravermelho médio de alta sensibilidade - Análise IR-OBIRCH - Análise dinâmica por irradiação laser - Análise da sondagem EO - Análise de alta resolução e de alta sensibilidade usando NanoLens

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ACHEMA 2024
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10-14 jun 2024 Frankfurt am Main (Alemanha) Hall 11.1 - Stand F62

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