Máquina de deposição por CVD HCTE-VCM-003

Introdução do produto: A função do sistema de deposição de vapor químico é depositar películas finas no substrato, melhorar as propriedades do material, fabricar dispositivos funcionais, conseguir a modificação da superfície, controlar com precisão a espessura das películas finas, melhorar a qualidade do produto, ajudar na investigação e desenvolvimento de novos materiais, e ser utilizado no fabrico de circuitos integrados, etc., com as vantagens de uma elevada controlabilidade do processo, capaz de produção em grande escala, e possivelmente um custo mais baixo.