Pó metálico 12017-12-8

de silício

O disilicida de cobalto (CoSi2) tem baixa resistividade e boa estabilidade térmica. Atualmente é amplamente utilizado como contato em circuitos integrados de larga escala, e CoSi2 tem uma estrutura cristalina semelhante ao Si, de modo que o CoSi2 epitaxial pode ser formado em um substrato de Si / estrutura Si, utilizado para estudar as características de interface do silício metálico epitaxial. Peso Molecular:115.104 Densidade:4,9 g/cm3 Cor:cinzento Ponto de fusão:1326 °C Ponto de ebulição:5100ºC EINECS (EC NO.)：234-616-8 O disilicida de cobalto (CoSi2) tem baixa resistividade e boa estabilidade térmica. Atualmente é amplamente utilizado como contato em circuitos integrados de larga escala, e CoSi2 tem uma estrutura cristalina semelhante ao Si, de modo que o CoSi2 epitaxial pode ser formado em um substrato de Si / estrutura Si, utilizado para estudar as características de interface do silício metálico epitaxial. 1.Alta pureza: a maior pureza pode atingir 99,99%, a XRD não detecta impurezas phase； 2.Distribuição concentrada: distribuição normal de tamanho de partícula, sem bimodal ou multimodal.