Mesa de coordenadas XY XY-OF-300x300J

com base giratóriamotorizadaelétrica

Descrição
Estágio XY rotativo de chassi aberto, de perfil baixo, projetado para manuseio de wafers e posicionamento automatizado de precisão na fabricação de semicondutores. Acionamento XY montado lateralmente e grande orifício central na mesa rotativa oferecem acesso desobstruído ao wafer por ambos os lados. Sistema configurável com diferentes aberturas e cursos.

Especificações principais

• Modelo estágio XY: XY-OF-300x300J
• Modelo estágio rotativo: ACR-335UT
• Abertura: 335 mm
• Curso (X × Y): 300 × 300 mm
• Rotação: ilimitada
• Resolução linear: padrão 5 µm; opcional 1 µm (com codificador linear)
• Resolução rotativa: 1 arc-sec
• Capacidade de carga: 20 kg
• Centro aberto (through hole): 20 mm
• Velocidade: até 40 m/s (stepper), até 80 m/s (servo)
• Velocidade angular: 100 rpm
• Acionamento (XY): fuso de esferas
• Acionamento (rotativo): acionamento direto
• Opções de motor: stepper, servo, com codificador

Desempenho e opções

• Posicionamento de alta precisão com codificador linear opcional de 1 µm
• Rotação ilimitada com resolução de 1 arc-sec para alinhamento angular fino
• Configurações de motor/acionamento selecionáveis conforme requisitos de velocidade ou torque
• Abertura e curso personalizáveis para acomodar diferentes tamanhos de wafer e ferramentas de processo

Aplicações

• Manuseio de wafers e alinhamento para litografia em fábricas de semicondutores
• Montagem de precisão, inspeção e metrologia
• Equipamentos automatizados de pick-and-place e teste

Informações de pedido
A configuração padrão inclui os modelos e acionamentos listados. Contacte o fornecedor para aberturas personalizadas, cursos, opções de codificador e suporte de integração.