Sistema de inspeção óptico Teron™ SL6xx series

de defeitos de superfíciepara wafers

Sistemas de Inspecção de Defeitos de Retículo para Aplicações de Fabrico de CI O Teron™ SL655 é usado para avaliar a qualidade do retículo recebido e para requalificar os retículos durante o uso na produção e após a limpeza do retículo, ajudando os fabricantes de chips a proteger o rendimento ao reduzir o risco de imprimir wafers defeituosos. Com a tecnologia STARlightGold™, o Teron SL655 produz a sensibilidade necessária para monitorar a degradação do retículo e detectar defeitos críticos de rendimento do retículo, como crescimento de névoa ou contaminação, em uma gama completa de tipos de máscara (ILT, CPL, EUV, etc.) no nó de design de 10 nm e além. O Teron SL655 também tem um rendimento de produção líder na indústria, suportando os tempos de ciclo rápidos necessários para qualificar o número crescente de retículos associados aos nós de design de IC avançados. Aplicações Teron™ SL670e: Inspecção de retículos EUV e ópticos (opcional) durante o fabrico de chips para tecnologias IC de nós de design de 7nm/5nm. Teron™ SL655: Inspecção de retículos ópticos e EUV (opcional) durante o fabrico de pastilhas para tecnologias IC de nós de concepção de 10nm. Teron™ SL650: Inspecção de retículos ópticos durante o fabrico de pastilhas para tecnologias IC de nós de concepção de 20nm. X5.3™: Inspecção de retículos não críticos durante o fabrico de chips para tecnologias IC de nós de design ≥20nm. RA (Reticle Analyzer): O sistema de análise de dados de retículos para fábricas de CI suporta aplicações como a classificação automática de defeitos, a revisão do plano de litografia e a monitorização da progressão de defeitos.