Analisador de gás 3Flex

de processode temperaturade pressão

Métodos de Área de Superfície, Porosidade, Quimisorção e Temperatura Programada Adsorção de gás de alta precisão para medições de área de superfície e porosidade Sorção de vapor para estudos específicos de aplicações Estudos de quimisorção e adsorção dinâmica para caraterização de superfícies activas Sequência de análises para medir automaticamente a fisissorção, quimissorção e sorção dinâmica numa única amostra A família Flex de analisadores de adsorção de alto desempenho para medir a área de superfície, o tamanho dos poros e o volume dos poros de pós e materiais particulados. Podem ser utilizados métodos padrão ou protocolos personalizados pelo utilizador para caraterizar adsorventes, catalisadores, zeólitos, MOFs, APIs, excipientes e uma grande variedade de materiais porosos e não porosos. O 3Flex é ideal para análise de adsorção de gás ou vapor de materiais microporosos (< 2nm) e mesoporosos (2 a 50nm) e oferece precisão, resolução e redução de dados superiores. Uma opção de quimisorção alarga a gama de aplicações de ambos os Flex à adsorção física e química para caraterizar a textura e a superfície ativa de catalisadores, suportes de catalisadores, sensores e uma variedade de outros materiais. A opção TCD acrescenta métodos dinâmicos de quimisorção e de temperatura programada e aumenta ainda mais os métodos analíticos disponíveis num único analisador de adsorção. A opção TCD acrescenta a redução programada por temperatura (TPR), a oxidação (TPO), a dessorção (TPD) e as reacções de superfície (TPSR) para medir as propriedades texturais e a quimissorção. A gama de análise do TCD pode ser alargada com uma opção para quimisorção por impulsos, com a adição de um circuito de injeção automatizado. O TCD também inclui um TCD de quimisorção por impulsos.