Fonte de íons Anode ion source

Fonte de íons ânodo (fonte de íons bar) A mudança de temperatura do ambiente de revestimento é pequena, especialmente benéfica para o revestimento de substratos sensíveis à temperatura, com ampla faixa de pressão de trabalho e ajuste de energia, combinando os requisitos de espaço da estrutura de base e o modo de instalação. 1.Limpeza do substrato não metálico: limpeza dos contaminantes superficiais (óxidos, hidrocarbonetos, etc.) do substrato, aumento da força de ligação da base do filme, redução dos defeitos do substrato, aumento da energia superficial do substrato, etc. 2.Melhorar a taxa de ionização do gás: ionizar o gás de trabalho como deposição assistida por íons no processo de pulverização de magnetrões e, ao mesmo tempo, melhorar a capacidade de migração e difusão das partículas do filme na superfície, o que é benéfico para a formação de uma estrutura de filme denso. 3. Filme de deposição: Deposição directa de DLC e películas ópticas, óxidos, nitretos, etc.