Máquina de deposição solar LD-42 series

Deposição de camada de óxido de túnel, i-Poly e D-poly para células solares TOPCon. - Características do processo de baixa pressão e de parede quente, com melhor uniformidade da película e boa compactação. - Processo LPCVD, substratos densamente carregados têm pouco efeito sobre a taxa de revestimento, com grande capacidade de carga num único tubo. - Mais zonas de temperatura para garantir a uniformidade entre os wafers de forma fiável. - Entrada de ar segmentada ajustável de forma independente para compensar o efeito de esgotamento do fluxo de ar.