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Máquina de polimento química SC-LSP4500
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Características
- Outras características
- química
Descrição
Equipamento de Polimento Ácido em Linha
Gravação/polimento, limpeza e secagem de células solares mono/multi cristalinas.
Camada de água Polishing→Alkaline/Polishing→Alkaline cleaning→Acid protection→Etching.
- Alto rendimento: 5 pistas 4500pcs/h; 10 pistas 8000pcs/h.
- Excelente uniformidade, longa duração do banho.
- Diversos aditivos ou tecnologia de aditivos mistos.
- Capacidade de manipulação da espessura do wafer até 120μm
- Troca rápida de banho em linha.
- Adequado para polimento lateral traseiro e com baixo consumo de químicos
- Adequado com MES ; o teste de peso em linha é opcional.
- Compatível com a função de polimento ácido.
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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.