Impurezas removidas: O2, H2O, H2
- Processo de purificação: adsorção + catálise
- Princípio: O gás passa através de um catalisador especial e de uma camada adsorvente onde as impurezas são removidas.
- Principal domínio de utilização: indústria de semicondutores, gás de soldadura, gases de proteção..
Informações técnicas:
- Pressão: até 380 barg
- Nível de impurezas à saída: < 10 ppb
- Versão semi-automática ou automática (HMI/PLC)
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