Impurezas removidas: H2O, O2, CO, CO2, CnHm
- Processo de purificação: quimisorção + adsorção
- Princípio: O gás passa através de um catalisador especial e de uma camada adsorvente onde as impurezas são removidas.
- Principal domínio de utilização: indústria de semicondutores, gás de soldadura, gases de proteção....
Informações técnicas:
- Pressão: até 380 barg
- Nível de impurezas à saída: < 10 ppb Versão semi-automática ou automática (HMI/PLC)
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