Máquina de deposição PVD Multi950

PECVDpor pulverização catódicaa vácuo

Pegada compacta, Projeto modular padrão, Flexível, Seguro, Câmara Octal, estrutura de porta 2 para o bom acesso, Processos de PVD + de PECVD. Características de projeto: 1. Flexibilidade: O arco e os cátodos engasgar, flanges de montagem da fonte de íon são estandardizados para a troca flexível; 2. versatilidade: pode depositar a variedade de metais baixos e de ligas; revestimentos óticos, revestimentos duros, revestimentos macios, filmes compostos e filmes de lubrificação contínuos nas carcaças metálicas e não metálicas dos materiais. 3. projeto direto: estrutura de porta 2, parte dianteira & abertura traseira para a manutenção fácil. A máquina Multi950 é um sistema personalizado do depósito de vácuo das funções do múltiplo para o R&d. Com discussão do meio ano com a equipe de universidade de Shanghai leaded pelo professor Chen, nós confirmamos finalmente o projeto e as configurações para cumprir o seu aplicações do R&D. Este sistema pode depositar o filme transparente de DLC com processo de PECVD, revestimentos duros em ferramentas, e o filme ótico com engasgar o cátodo. Baseado neste conceito de projeto piloto da máquina, nós desenvolvemos outros 3 sistemas de revestimento após então: 1. Revestimento bipolar da placa para os veículos bondes FCEV1213 de Fuel Cell, 2. cerâmico dirija o cobre chapeado DPC1215, 3. sistema flexível RTSP1215 engasgar.