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Máquina de deposição PECVD PECVDde camadas finas de silício
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Características
- Método
- PECVD
- Tipo de deposição
- de camadas finas de silício
Descrição
·A camada de óxido do túnel, a camada i-poly e a camada D-poly podem ser revestidas no mesmo tubo do forno, o que contribui para reduzir as etapas do processo, melhorar o rendimento e diminuir eficazmente a taxa de quebra;
·Sem efeitos de parede quente, pelo que o tubo de quartzo tem uma longa vida útil;
·Deposição ligeiramente envolvente, fácil de remover;
·Dopagem precisa; possibilidade de introduzir outros elementos de dopagem que aumentam a eficiência, adequado para a expansão do processo e com grande margem para melhoria da eficiência;
·Tecnologia anticondução patenteada.
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Horizontal Furnaces Series
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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.