·Capacidade de produção: 600 unidades/lote, 14 400 unidades/hora (wafer de 210 mm); 720 unidades/lote, 17 280 unidades/hora (wafer de 182 mm);
·Volume de circulação do banho de processo ajustável;
·Textura piramidal uniforme, profundidade de gravação ajustável;
·Espessura da pastilha até 120 µm;
·Com área limpa e seca e sistema de secagem com autolimpeza;
·Baixo consumo de H₂O₂;
·Troca rápida do banho em linha;
·Disponível com MES, sistema RFID e teste de peso em linha opcional.
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