Espectrômetro ICP-OES ARCOS

ultravioletade emissão ópticaICP

A nova interface lateral dupla (DSOI) aumenta a sensibilidade e elimina problemas de contaminação/compatibilidade de matrizes Um instrumento em vez de dois: Único instrumento de plasma MultiView no mercado - observação de plasma axial e radial (simples ou dupla) verdadeira num único instrumento Sistema ótico ORCA: Captura simultânea do espetro na gama de comprimentos de onda de 130-770 nm com uma sensibilidade até 5x superior à dos sistemas baseados em Echelle - proporciona o melhor desempenho da sua classe na gama UV/VUV O espetrómetro de emissão ótica com plasma indutivamente acoplado (ICP-OES) SPECTRO ARCOS destaca-se em aplicações industriais e académicas para a análise elementar mais avançada de metais, produtos químicos, petroquímicos e outros materiais. O mecanismo MultiView sem periscópio permite que um operador "transforme" literalmente um instrumento de visão radial num dispositivo de visão axial, ou vice-versa, em 90 segundos ou menos. O MultiView inclui agora a observação dupla de plasma lateral. As duas interfaces ópticas aumentam a sensibilidade e eliminam problemas de contaminação/compatibilidade de matrizes. Os detectores de matriz de linhas, baseados na tecnologia CMOS (complementary metal-oxide-semiconductor), eliminam o blooming, lêem os sinais baixos dos elementos vestigiais mesmo na proximidade de linhas matriciais intensas, oferecem uma gama dinâmica elevada e eliminam o arrefecimento no chip. A conceção do SPECTRO ARCOS garante custos de funcionamento excecionalmente baixos durante uma vida útil longa e fiável. Além disso, possui um chassis moderno e ergonómico com características comprovadas, como a tecnologia de purificação de gás selado UV-PLUS sem purga, arrefecimento a ar patenteado, sistema de válvula inteligente opcional e câmara de vídeo portátil para monitorização remota.