Placa cerâmica

em aluminade óxido de alumínio

Descrição do produto
Esta placa retangular de cerâmica porosa de alumina (Al2O3) foi concebida para adsorção por vácuo de precisão e aplicações de rolamento de ar (flutuação por ar) em ambientes de fabrico de semicondutores e tecnologia avançada. A sua estrutura porosa uniforme assegura força de retenção por vácuo consistente e distribuição uniforme do fluxo de ar, permitindo o manuseio sem contacto e sem danos de wafers, painéis e substratos finos. A placa é adequada para linhas de produção de alta limpeza e alta precisão.

Especificações do produto
Fórmula: Al2O3
Forma: Placa
Material: Cerâmica porosa de alumina
Número CAS: 1344-28-1
Produto: Placa cerâmica porosa

Especificações / Tolerâncias
Comprimento: 400 mm ±0,1 mm
Largura: 300 mm ±0,1 mm
Espessura: 4 mm ±0,1 mm

Aplicações típicas

• Sistemas de vacuum chuck para semicondutores (vacuum chuck para rectificação de wafer, corte de wafer, impressão)
• Limpeza e manutenção de vacuum chucks
• Vacuum chuck para transferência e manuseio de wafers/painéis
• Plataformas de rolamento de ar e flutuação por ar de precisão
• Fabricação de painéis LCD e OLED
• Processamento microelectrónico de semicondutores
• Manuseio de vidro e painéis para telemóveis
• Processamento de filmes finos e revestimentos
• Plataformas de processamento a laser
• Sistemas de impressão e revestimento
• Indústria fotovoltaica e fabricação de células solares

Principais características

• Estrutura porosa uniforme e estável para desempenho previsível
• Adsorção por vácuo fiável adequada para manuseio de wafers
• Distribuição uniforme do fluxo de ar para uso em rolamento de ar/flutuação
• Permite manuseio sem contacto para minimizar danos
• Elevada precisão dimensional e tolerâncias apertadas
• Projetada para ambientes de produção em sala limpa
• Formato retangular grande para acomodar wafers ou painéis de maior dimensão

Propriedades físicas
Densidade: 2,3–2,5 g/cm³

Propriedades mecânicas
Dureza (HRA): ≥ 50,00

Características técnicas

• Fórmula química: Al2O3
• Dimensão padrão: 400 × 300 × 4 mm (tolerância ±0,1 mm)
• Tamanho de poro (variante exemplo): 30 µm
• Cor (variante exemplo): Castanho claro
• Quantidade por embalagem: 1 pc por unidade
• SKU (variação exemplo): 69296-00001-1068
• Intervalo de densidade típico: 2,3–2,5 g/cm³
• Dureza: HRA ≥ 50
• Uso previsto: vacuum chuck para semicondutores, plataformas de rolamento de ar/flutuação, manuseio de wafers/painéis em ambientes de alta limpeza