リソグラフィーおよびウェハー検査用セラミック部品
次世代リソグラフィーおよびウェハーハンドリングアプリケーションに最適な当社の超高純度セラミック部品は、コンタミネーションを最小限に抑え、非常に長寿命の性能を提供します。
リソグラフィおよびウェハ検査コンポーネント
ケミカルアタックに耐性があり、熱的に安定している当社の高純度セラミック部品は、リソグラフィー処理、ウェハーハンドリング(低汚染)、およびウェハー検査(極めて高い耐久性と硬度、寸法安定性)に最適です。用途には以下が含まれます:
フォトマスク基板
ウェーハチャック
ウェーハステージ部品
ウェーハテーブル
推奨リソグラフィー&ウェハー検査材料
高純度アルミナ
UltraClean™ 再結晶シリコンカーバイド
CeraSiC、UltraSiC™直接焼結炭化ケイ素
フォトマスク基板
CoorsTekのフォトマスク基板は、高純度の合成石英ガラスから作られており、優れた紫外線および可視光線透過率、熱安定性、電気絶縁性、低複屈折、耐久性のある化学的安定性を実現します。高度でスケーラブルな研磨技術により、ウェハーから大型フラットパネルディスプレイ(FPD)までの微細パターニングに最適なフォトマスク基板です。
ウェーハチャック
当社の超平坦セラミック真空ウェーハチャック、ステッパーチャック、ポーラスチャック、静電チャックは、半導体ウェーハプロセスの歩留まり管理を改善します。低表面接触構造により、繊細なアプリケーションにおける裏面パーティクルのリスクを最小限に抑えます。当社のウェーハチャックは、以下を提供します:
ウルトラフラット機能
鏡面研磨
非常に軽量
高い剛性
低熱膨張
直径Φ300mm以上
優れた耐摩耗性
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