概要Gasboard-2060 は、シリコン系 CVD 成膜チャンバーのリアルタイムチャンバー洗浄エンドポイント検出(EPD)向けに設計された高性能 SiF4 ガスセンサーです。特別に設計されたガスチャンバーと非分散型赤外線(NDIR)技術に基づき、半導体チャンバー洗浄プロセスにおける SiF4 濃度を高選択性かつ高精度で測定します。Gasboard-2060 は SiF4 濃度をリアルタイムで監視し、洗浄エンドポイントを迅速かつ正確に検出して洗浄時間とガス消費を削減し、チャンバーの摩耗を最小限に抑えて構成部品の使用寿命を延ばします。モジュール設計により取り付けが容易で、較正および調整機能をサポートし、統合と保守を簡便にします。
特長- NDIR 技術により SiF4 を高感度かつ高精度で測定。
- CVD 成膜チャンバー洗浄のエンドポイントを正確に決定するための高速応答。
- 低ゼロドリフトと高い再現性により安定した測定性能を提供。
- システム統合と設置が容易なモジュール設計。
- 柔軟なインターフェースのためのアナログおよびデジタル出力。
仕様測定項目: SiF4
検出原理: NDIR
範囲: (0.0-0.2) Absorbance
応答時間: T90<2s
データ報告率: 0.5s
アナログ出力: 1-10VDC
電源入力: 15VDC (≤300mA), 24VDC
デジタル通信: RS232
サンプリングポート: KF16
寸法: 200×120×75.5mm
漏れ率: <1×10-8 Pa·m3/s (He)
動作温度: (5~65) ℃
技術仕様- 測定項目: SiF4
- 検出原理: NDIR
- 範囲: (0.0-0.2) Absorbance
- 応答時間: T90<2s
- データ報告率: 0.5s
- アナログ出力: 1-10VDC
- 電源入力: 15VDC (≤300mA), 24VDC
- デジタル通信: RS232
- サンプリングポート: KF16
- 寸法: 200×120×75.5mm
- 漏れ率: <1×10-8 Pa·m3/s (He)
- 動作温度: (5~65) ℃