真空蒸発器

薄膜加工低温

薄膜または薄層蒸発器は、蒸発によって温度に敏感な製品を精製するために開発されました。温度に敏感な製品は、混合物中の高沸点と低沸点の両方の成分である可能性があります。目標は、低真空を意味する低い蒸発温度で運転し、蒸発器内での製品の滞留時間を最小にすることであった。加熱された蒸発面における蒸発温度を可能な限り下げるために、液体製品自体による静水圧を含む圧力を最小にする必要があります。 この解決策として、回転するワイパーシステムにより、垂直な蒸発パイプの内側に液状製品の薄膜を形成します。 回転するワイパーは、壁の内側で下降流の液体供給を均等に分散させます。膜の厚さは、液体の粘度、ワイパーシステムの種類、回転速度、液体の処理量によって異なりますが、約0.1～0.5mmです。この薄い膜は、静水圧をほとんど発生させず、ホールドアップを最小限に抑え、半径方向の混合性能が良いため、温度と濃度の勾配をほとんど発生させません。このため、蒸発率が高く、最低温度でも蒸発器内の滞留時間が短く、温度に敏感な高品質の製品を生産することができます。蒸気の大部分は上方へ向流され、下降流のコンデンサーに導かれます。 デ・ディートリッヒ・プロセス・システムズは、ステンレス鋼、合金、ホウケイ酸ガラスまたはグラスライニングスチール製の薄膜蒸発器を幅広く提供することができます。