真空エバポレーター 熱加工
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特徴
- タイプ
- 真空, 熱
- 研究所 / プロセス
- 加工
詳細
熱に敏感な製品の低温での効率的な蒸発
温度に敏感な製品や粘度の高い製品の処理には、熱劣化を最小限に抑え、効率を最大化する蒸発システムが必要です。当社の薄膜蒸発装置は、真空条件下（最低1mbar）で作動し、滞留時間を最小限に抑えながら低温での迅速な蒸発を保証します。連続運転と均一な膜分布により、製薬、化学、食品産業に最適です。
性能と安全性
01
1 mbarまでの真空蒸留
02
最大80kg/hの蒸発速度
03
薄膜厚さ0.1～0.5 mm
04
ステンレス、合金、ホウケイ酸ガラス、ガラスライニング鋼が使用可能
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