加工監視システム STACK 602
粒子測定用化学工業用

加工監視システム - STACK 602 - ENVEA - 粒子 / 測定用 / 化学工業用
加工監視システム - STACK 602 - ENVEA - 粒子 / 測定用 / 化学工業用
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特徴

用途
測定用, 加工, 粒子
領域
化学工業用, ガラス産業用
設定
壁掛け式
その他の特徴
リアルタイム, 連続, 自動

詳細

DYNAMICOPACITY™ 認定された特定のCEM TÜV承認のDynamicOpacity™ 粒子状モニターは、バグハウスや静電降雨機 の特長と利点を含む大規模な乾燥産業プロセスからの粉塵の排出測定 -簡単な設置、セットアップ、メンテナンス -耐性汚染に、光学系で運用 90% 汚染された -従来の不透明度システムよりもメンテナンスレベルが低い -機器の空気でパージでき、所有コストを低く抑えることができます。必要に応じてブロワーを利用可能 -静電気沈殿器後のコンプライアンス測定(mg/m³)に使用およびバッグハウス -高度なセンサー設計には 、校正後の自動ドリフト(ゼロおよびスパン)チェックmg/m³出力が含まれます。 主な用途 -バッグフィルター、カートリッジフィルター、サイクロン、静電気沈殿器、ろ過 なし-結露しない/乾燥煙道ガス 典型的な用途: -焼却 -金属(例えばスチール/アルミニウム) -鉱物(例えばセメント/石膏) -化学物質(例えば、製油所/ゴム) -発電プラント(石炭/バイオマスなど)

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カタログ

STACK 602
STACK 602
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見本市

この販売者が参加する展示会

Ecomondo 2026
Ecomondo 2026

3-06 11月 2026 Rimini (イタリア) ホール B8 - ブース 204

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