溶媒配布装置用システム JW series

水用タンク用汎用化学品

概要
半導体製造環境において、UHP（Ultra-High Purity）液体化学薬品供給システムは、バルク保管と使用点間で酸・アルカリ・溶媒を管理された低汚染状態で移送します。本システムは手作業を減らし、工程の一貫性と歩留まり維持に寄与します。

バルク化学品ハンドリングシステム
バルクハンドリングは外部タンクやドラム保管から大量の薬液を搬送します。構造材には電解研磨された316Lステンレスや高品位PFA配管が用いられます。自動圧送方式や磁気結合（マグドライブ）ポンプにより、脈動のない安定流量を確保し、結晶化や微粒子発生を低減します。

UHP 液体化学薬品供給システム（ファイナルマイル）
ファイナルマイルシステムはポイントオブユースへの供給に特化し、高性能ろ過、非接触レベルセンサ、リアルタイム消費監視を備えます。安全対策として二次封じ込め、自動漏洩検知、窒素パージを実装し、酸化防止と作業者保護を図りつつ高純度供給を実現します。

技術データ
モデル: JW-200L-CDM, JW-1000L-CDM
特殊ガスキャビネット寸法: W2200*D1500*H2000（ドラム2本） / W2990*D2100*H2000（ドラム2本）
制御盤電源: 220VAC、50Hz、0.5–3KW、漏電保護
パージ: PN2、SS316 1/2" SWG
超純水: UPW、JIS 16A 接続
圧縮空気: CDA、SS316 1/2" SWG
廃液排出口: ドレン、PP DN20 Fusion Socket / ドレン、PP DN25 Fusion Socket

標準 / オプション品

• 非常用手動操作パネル（オプション）
• 高効率フィルター
• ドアセンサー（オプション）

用途

• 半導体
• 太陽光発電（フォトボルタイク）
• ソーラーエネルギー
• 液晶パネル
• 光ファイバー
• その他ハイテク生産分野

取扱い特殊化学薬品

• HF - フッ化水素酸
• HCL - 塩酸
• H2O2 - 過酸化水素
• KOH - 水酸化カリウム
• HNO3 - 硝酸
• NH4OH - 水酸化アンモニウム
• H2SO4 - 硫酸

機能

• 液体化学薬品のろ過
• 液体化学薬品のサンプリング
• 液体化学薬品の循環
• 液体化学薬品の供給

特長 / 技術仕様

• モデル: JW-200L-CDM; JW-1000L-CDM
• 特殊ガスキャビネット寸法: W2200 × D1500 × H2000（ドラム2本）または W2990 × D2100 × H2000（ドラム2本）
• 制御盤電源: 220VAC、50Hz、0.5–3KW、漏電保護付き
• パージ: PN2、SS316 1/2" SWG
• 超純水接続: UPW、JIS 16A
• 圧縮空気: CDA、SS316 1/2" SWG
• 廃液排出口オプション: PP DN20 Fusion Socket または PP DN25 Fusion Socket
• 標準装備: PP外装 + 透明PVC観察窓、内部PFA配管バルブ、窒素パージ、サンプリング、全自動酸供給、左右ドラム自動切替、ポンプ冗長構成（2稼働＋1予備）、配管・バルブ状態のタッチスクリーン表示、自動供給遮断、早期警告・アラーム、セルフチェック、多言語対応、複数信号入力、コードスキャナ、高効率フィルター、オプションのドアセンサー
• 用途例: 半導体、光伏、太陽光、液晶パネル、光ファイバー、その他ハイテク生産分野
• 取扱化学薬品: HF, HCL, H2O2, KOH, HNO3, NH4OH, H2SO4
• 主要機能: ろ過、サンプリング、循環、供給