レーザー回折による粒度分析器 Winner3003

レーザー回折によるレーザー品質管理用

製品概要
Winner3003は、Mie散乱理論に基づく乾式分散レーザー粒度分析計で、粉体の高精度かつ再現性のある測定を目的に設計されています。収束フーリエ（折り返し）光学系、高性能639 nmレーザー、高感度フォトディテクタリングを搭載。空気を分散媒とする乱流分散方式と高精度給料装置、特許取得の粉体スプレーポンプ、無油静音ガス源を組み合わせ、乾式サンプルの完全分散を実現します。液体で反応・形状変化する粉体の測定に適しています。

主な特徴

• Mie散乱原理に基づく乾式分散測定。
• 収束フーリエ（折返し）光学系、レーザー λ = 639 nm、P > 2 mW、及び高感度検出リング。
• 乱流乾式分散、試料自動導入、SOPワンクリック運転。
• 特許粉体スプレーポンプと無油静音ガス源により均一な分散を確保。
• 三次元自動光学アライメント、レーザー安全クラス1。

適用分野

• セメント、セラミックスの品質管理。
• 製薬用粉体、顔料、染料、充填材。
• 化学品、触媒、機能性粉体。
• 石炭粉、添加剤、農薬、発火性物質（安全管理に準拠）。
• 金属・非金属粉、黒鉛、炭酸カルシウム、カオリン等の鉱物系粉体。
• 液中で反応または形状変化する材料（例：磁性粉、薬草類）。

利点

• SOP自動化ワークフロー：自動除塵、エア供給、供給、測定、データ処理により作業負荷と操作差を低減。
• 科学的かつ自動の乾式分散システム：特許乱流分散技術と耐摩耗セラミックコアで長寿命・安定測定を実現。
• ハイブリッドステッパーモータによる自動光学アライメントでミクロン単位の精密位置決め。
• 進化した光学設計により測定範囲全体の散乱光を収集し一貫した精度を維持。
• フリー適合手法により分布制約なしのフィッティングで結果精度を向上。

主要仕様

• モデル名：Winner3003
• 原理：Mie散乱
• 測定範囲：0.1–300 μm
• チャネル数：40
• 精度誤差：≤1.0%（CRM D50）
• 再現性誤差：≤1.0%（CRM D50）
• 分散方式：乱流乾式分散、自動試料導入
• 測定時間：最短10秒
• サンプリング周波数：最大10 kHz
• 光源：レーザー λ = 639 nm、P > 2 mW
• 光学系：リバースフーリエ（折返し）
• 光学台アライメント：自動
• レーザー安全クラス：1
• 外形寸法：本体 765×450×325 mm；乾式モジュール 260×245×295 mm
• 質量：本体 26 kg；乾式モジュール 7 kg
• 運転モード：SOP完全自動、一発測定

ソフトウェアと出力

• 解析モデル：自由分布、R-R分布、対数正規分布など各種統計フィット。
• 複数測定結果の統計比較によるロット間・工程比較機能で品質とコスト管理を支援。
• 代表性のある試験結果を出力するインテリジェントデータ処理。
• カスタム解析：D1〜D100任意の特性粒子径、指定サイズや範囲の累積割合。
• 出力：代表的粒径値、区間（差分）および累積（積分）分布をデータおよびグラフ（ヒストグラム/曲線）で表示。
• レポート出力形式：Word、Excel、BMP、TXT、PDF。
• ワンクリックで除塵、エア供給、試料供給、測定、データ処理を自動化。
• インターフェース言語：英語および中国語（追加言語は要件に応じて対応）。
• GMP対応：オプション。

技術仕様

• モデル：Winner3003
• 測定範囲：0.1–300 μm
• 原理：Mie散乱
• 光源：レーザー λ = 639 nm、P > 2 mW
• チャネル数：40
• 精度誤差：≤1.0%（CRM D50）
• 再現性：≤1.0%（CRM D50）
• サンプリング周波数：最大10 kHz
• 測定速度：最短10秒
• 分散方式：乱流乾式分散、自動給料
• 光学経路：リバースフーリエ（折返し）
• 光学台：自動アライメント
• レーザークラス：1
• 外形寸法：本体 765×450×325 mm；乾式モジュール 260×245×295 mm
• 重量：本体 26 kg；乾式モジュール 7 kg
• 出力形式：Word、Excel、BMP、TXT、PDF