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化学蒸着真空蒸着
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特徴
- 方法
- 化学蒸着
詳細
大面积垂直溅射设备
・成膜有效范围
300mm×100mm
・设备配置
带有垂直 RAM 阴极的溅射室
・成膜材料
TCO(ITO等)/金属(Cu等)/金属氧化物(NiO等)/C(DLC)/其他
関連サーチ
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。
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