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C/N
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特徴
ガスの種類
ヘリウム
設置
床置き
ガス流量
5,000 m³/h
(176,573 ft³/h)
詳細
不純物を除去O2、H2O、H2 - 精製プロセス:吸着+触媒作用 - 原理:ガスは特殊触媒と吸着剤層を通過し、不純物が除去される。 - 主な用途:半導体産業、溶接ガス、保護ガス... 技術情報 - 圧力:最大380barg - 出口不純物レベル< 10 ppb - 半自動または自動バージョン (HMI/PLC)
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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。
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