X線光電子分光器 AXIS Supra+

実験用半導体産業用分光学用

概要
AXIS Supra+ はイメージング型の X 線光電子分光装置（XPS）で、材料表面の最上部約10 nm の元素および化学状態の定量情報を提供します。日本では Kratos Ultra 2 としても知られており、AXIS Supra+ は分光と並列イメージング機能を高度な自動化と組み合わせ、金属、半導体、絶縁体の表面分析において研究およびルーチン用途に対応します。

主な特徴

• 感度: スペクトロスコピーおよび XPS イメージングモードで優れた感度を発揮し、表面や微量分析に適します。
• 操作性: ESCApe ソフトウェアは取得、処理、自動化を統合し、効率的なワークフローを実現します。
• 並列 XPS イメージング: 高空間分解能の高速イメージングにより元素や化学状態の面内分布をマッピングできます。
• 分解能: 表面化学の詳細解析に適した高い分光およびイメージング分解能。
• 自動化: 装置機能の広範な自動化によりスループットと再現性を向上させます。
• 追加技術: XPS 性能を損なうことなく、補完的な表面分析・前処理オプションを追加できるモジュラー設計。

用途

• 電池やエネルギー貯蔵材料の分析。
• HAXPES（高エネルギー X 線光電子分光）に関連する研究。
• コーティングや薄膜の評価。
• アルゴンクラスタスパッタリングを用いた OLED 等の薄膜の UPS‑XPS 深さ方向プロファイリング。
• 化合物半導体や多層材料の層構成の定量解析。

入手可能な資料（選定アプリケーションノート）

• OLED 薄膜のアルゴンクラスタ UPS‑XPS 深さプロファイル（アプリケーションノート）。
• 化合物半導体の層組成定量（アプリケーションノート）。
• 異なる光子エネルギーを用いたコアライン／オージャーピーク重なりの除去（アプリケーションノート）。

技術仕様

• ブランド: Shimadzu
• モデル: AXIS Supra+
• 別名: Kratos Ultra 2（日本）
• タイプ: イメージング X 線光電子分光装置（XPS）
• 分析深さ: 表面上層約 ~10 nm
• 技術: 分光モードおよび並列イメージングモードを備えた XPS。アルゴンクラスタスパッタリングによる UPS‑XPS 深さプロファイリングをサポート
• イメージング: 面内化学分布のための高空間分解能並列 XPS イメージング
• 感度・分解能: 優れた感度と高い分光／イメージング分解能を実現する設計
• ソフトウェア: 取得、処理、自動化制御のための ESCApe
• 試料対応: 金属、半導体、絶縁体および各種薄膜／コーティング
• モジュール性: XPS 性能を損なうことなく追加の表面分析・前処理オプションで構成可能