このモジュールは、様々なガスの正確なドージングを可能にし、ガスハンドリング機能をワークフローにシームレスに統合します。水素、窒素、酸素など様々なガスに対応しており、特定の実験要件に合わせてガス環境を調整することができます。ガスモジュールは、他のThalesNano装置やモジュール(H-Cube ProやPhoenixフローシステムを含む)とシームレスに統合され、ラボプロセスの包括的な制御を可能にします。
ガスモジュールの仕組み
このモジュールは、H-Cube ProやPhoenix Flow Reactorと簡単に連携し、最大100 barの圧力まで様々なガスを使用することができます。カルボニル化や酸化などの反応を高圧で行うことができ、リアクターの化学反応能力を大幅に向上させます。
- ガスモジュールに接続されたガス源(通常はガスボンベ)は、25~140 barの圧力範囲のガス流を放出します。
- ユーザーは、ガスモジュールのリストから該当するガスを選択するか、新しいガスの特性を設定することができます。
- 内蔵のマスフローコントローラーは、高圧でも正確なガス注入を保証します。
ガスモジュールの特徴
多用途:14種類のガスが1つの装置に:圧縮空気、O2、CO、エチレン、ヒドロホルミル化用SynGas、CH4、C2H6、He、H2、N2、N2O、NO、Ar、CO2(予熱後);熱力学的特性と適合性がよく知られている他のガスの導入も可能。
強力:最大100 barの圧力で不均一反応を行う能力
堅牢:316ステンレス鋼またはハステロイからなる構造材料
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